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Internationales Anwender-Symposium 2010 für hochauflösende mikro- und nanofocus Computertomographie in Dresden

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Die hochauflösende Computertomographie mit Voxelauflösungen im Mikrometer- und Submikrometerbereich erlebt momentan in Forschung und Industrie eine rasante Verbreitung. Es gibt mittlerweile kaum eine Disziplin, in der zerstörungsfreie Qualitätskontrolle, dimensionales Messen oder Mikrostrukturanalyse mit CT nicht zu neuen Erkenntnissen führen und zugleich traditionelle zeitaufwändige und zerstörende Untersuchungsmethoden ersetzen. Um die Anwender seiner hochauflösenden CT-Systeme besser untereinander zu vernetzen, lädt die Produktlinie phoenix|x-ray von GE Sensing & Inspection Technologies vom 31. August bis 2. September 2010 zu einem Anwender-Symposium nach Dresden ein.

Die Veranstaltung dient dem interdisziplinären Erfahrungsaustausch von CT-Anwendern aus aller Welt und richtet sich an Nutzer von CT-Technologie aus der material-, geo- oder biomedizinischen Forschung, der dimensionalen Messtechnik oder Fehleranalyse in Elektronik und Sensorik. Darüber hinaus werden neueste Entwicklungen in der CT-Technologie sowie der unterschiedlichsten quantitativen Auswertungsprogramme vorgestellt. Jeder Teilnehmer ist eingeladen, bis zum 30. April 2010 einen Abstract einzureichen, um seine eigenen Methoden und Forschungsergebnisse in Form eines Vortrages oder Posters in das Programm einzubringen.

Das Symposium ist auch eine ideale Möglichkeit für Interessenten an der CT-Technologie, sich über die umfangreichen Möglichkeiten hochauflösender Computertomographie ein umfassendes Bild zu verschaffen und zugleich von den umfangreichen Erfahrungen der aktiven Nutzer zu profitieren.

Nähere Informationen über das Symposium sowie den Call for Papers gibt es unter <link _top external-link-new-window>Phoenix X-Ray.



Symposium im Überblick:

  • Symposium Overview
  • International X-ray CT Symposium for High-Resolution Micro- and Nanofocus Computed Tomography
  • 31. August bis 2. September 2010
  • Veranstaltungsort Dresden
  • Abstract deadline: April 30, 2010
  • Organisiert von der GE Sensing & Inspection Technologies Produktlinie phoenix|x-ray




<link _top external-link-new-window>Klicken Sie hier für mehr Informationen und Kontakt zu phoenix x-ray in unserem Lieferantenprofil




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